凈化工程在建設之初對溫濕度的設計要優先考慮好，因為工藝對生產過程當中溫濕度的要求已經越來越高，所以企業所建設的凈化工程要對溫濕度要有一個良好的掌控。
　　在大規模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數的差要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0。24um線性膨脹，所以要有±0。1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染。濕度過高會產生的問題很多。相對濕度大于55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精密裝置或電路中，就會引起事故。相對濕度在50%時易生銹。
　　然而對于大部分凈化工程，為了不讓外界污染侵入，需要保持內壓力(靜壓)高于外壓力(靜壓)。實驗臺框架一般采用C型方型鋼，經酸洗磷化、電泳后，實驗臺表面經環氧樹脂高壓靜電粉沫噴涂，高溫固化處理。具有良好的防腐性能，緊密強固，承重力強。實驗室家具實驗室儀器擺放的設計是一個實驗室設計中的難點之一。實驗儀器的擺放看似簡單，可實際上需要考慮的因素很多。實驗儀器是否可以良好平穩運行，是否可以妥善地得到保護，是否可以將環境對其的影響減小，相互之間是否有影響，實驗人員是否可以方便地使用等等問題，都是在考慮實驗室儀器擺放位置的時候需要關注的問題。